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期刊论文
化学镀Ni—Cu—P合金的机理研究
化学镀Ni—Cu—P合金的机理研究
来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:luckymanjxj
【摘 要】
:
以金属共沉积理论为依据,对Cu2+、Ni2+共沉积进行计算,结果发现,理论计算值与实际工艺参数值之间存在极大差异.表明在化学沉积Ni-Cu-P合金过程中,由于Ni2+的重要作用--诱导在
【作 者】
:
张朝阳
魏锡文
【机 构】
:
中国工程物理研究院化工材料研究所,重庆大学化学化工学院
【出 处】
:
表面技术
【发表日期】
:
2004年2期
【关键词】
:
化学镀
NI-CU-P合金
共沉积机理
Electroless Ni-Cu-P plating alloy
Co-sediment
Mechanism
【基金项目】
:
中国工程物理研究院项目
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以金属共沉积理论为依据,对Cu2+、Ni2+共沉积进行计算,结果发现,理论计算值与实际工艺参数值之间存在极大差异.表明在化学沉积Ni-Cu-P合金过程中,由于Ni2+的重要作用--诱导在活性表面上放电及维持表面活性,使得Cu2+、Ni2+的共沉积不同于一般阴电极上金属共沉.
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