X射线曝光细线条掩模制作中的几个问题

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本文针对X射线曝光用细线条掩模制作工艺中的细线条(指抗蚀剂线条)粘附、细线条制作和用溅射法去除电镀导电层等几个技术难题进行了分析。并介绍了一些措施和手段,为解决上述几个问题进行了探索,制作了X射线曝光用的实验掩模。 In this paper, several technical problems such as thin line (referring to resist line) adhesion, thin line making and sputtering conductive layer removal by thin line mask manufacturing process are analyzed. And introduced some measures and means, in order to solve the above problems were explored, made X-ray exposure experimental mask.
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