157nm光刻面临的各种挑战

来源 :光机电信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户：tiger_adan

【摘要】

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硅谷集团于1998年开始了一项极具挑战性和风险性的研究工作-157nm光刻的研究.在该项研究中,硅谷集团与工业界专家们建立了伙伴关系,其目的旨在寻求战胜这些挑战的合适方法.这

【作者】

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金友

【出处】

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光机电信息

【发表日期】

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2002年8期

【关键词】

：

光刻光刻胶加工工艺薄膜污染净化

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硅谷集团于1998年开始了一项极具挑战性和风险性的研究工作-157nm光刻的研究.在该项研究中,硅谷集团与工业界专家们建立了伙伴关系,其目的旨在寻求战胜这些挑战的合适方法.这些合作研究涉及157nm光刻的各方面问题,其中包括支撑曝光设备所需要的基础研究,例如光刻胶、光掩模(掩模母版)和先进的计量测试技术等.

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