论文部分内容阅读
硅谷集团于1998年开始了一项极具挑战性和风险性的研究工作-157nm光刻的研究.在该项研究中,硅谷集团与工业界专家们建立了伙伴关系,其目的旨在寻求战胜这些挑战的合适方法.这些合作研究涉及157nm光刻的各方面问题,其中包括支撑曝光设备所需要的基础研究,例如光刻胶、光掩模(掩模母版)和先进的计量测试技术等.