【摘 要】
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采用化学镀的方法在铜基底上镀镍作为缓冲层,以酞菁铁（FePc）作为催化剂,采用CVD法在Cu/Ni基底上制备出了碳纳米管薄膜（Cu/Ni-CNTs）,利用扫描电镜（SEM）和拉曼光谱进行了表征。为了测
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采用化学镀的方法在铜基底上镀镍作为缓冲层,以酞菁铁（FePc）作为催化剂,采用CVD法在Cu/Ni基底上制备出了碳纳米管薄膜（Cu/Ni-CNTs）,利用扫描电镜（SEM）和拉曼光谱进行了表征。为了测试在Cu/Ni基底上生长碳纳米管薄膜的场发射特性,采用二极管结构,在真空度为2×10-4 Pa下进行直流场发射测试。结果表明Cu/Ni基底的碳纳米管薄膜具有优异的场发射特性,薄膜与阳极距离为9mm时开启场强为1.44V/μm,场发射测试数据符合Fowler-Nordheim（F-N）场发射特性曲线,
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