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镁合金在工业有大量应用;然而,他们的腐蚀电阻,穿电阻,和坚硬是相当差的,它限制他们的应用。Ti 离子被金属蒸汽真空弧(MEVVA ) 植入进 AZ31 镁合金表面 implanter。这金属弧离子来源有一根宽广横梁和高当前的能力。Theimplantation 精力在 45 keV 被修理,剂量在 9 x 10 ~(17 )cm~(-2) 。通过离子培植,有在厚度的约 900 nm 的 Ti 离子培植层直接在 AZ31 镁合金,它的表面性质极大地由改善了的表面上被形成。化学药品一些声明离子培植层的典型元素