论文部分内容阅读
采用射频磁控溅射技术制备了Ru—B薄膜，利用掠入射X射线衍射（GIXRD）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）、原子力显微镜（AFM）等分析技术对薄膜的相结构、沉积速率以及表面形貌进行了研究分析。结果表明：在室温下制备的Ru—B薄膜均为非晶态。薄膜的沉积速率不随溅射时间变化，但随溅射功率的增加而增大。薄膜表面光滑致密质量良好，随着溅射时间的延长，薄膜表面晶粒大小和粗糙度增大。溅射功率影响着基片表面粒子的形核长大和迁移扩散速率，进而影响薄膜的表面形貌。