Ni-Mn-Sn磁性形状记忆合金薄膜可以由磁场直接诱发母相到马氏体之间的转变,响应频率高,输出应变大。同时,在磁驱相变的过程中,伴随着丰富的物理内涵与现象,使其在微机电系统(MEMS)中有很大的应用前景。但是磁控溅射得到的薄膜一般为非晶态,晶化后才能具备形状记忆效应等丰富的性质。而目前Ni-Mn-Sn薄膜的晶化机制尚未被揭示。此外,Ni-Mn-Sn薄膜脆性大,严重限制其应用与发展。因此,本文通过在
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