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斜角蒸镀方法是制备光学薄膜的常用方法之一。试验证明，采用斜角蒸镀方法沉积薄膜，能改变薄膜晶体结构，从而使薄膜性能得到改变。在蒸发过程中，蒸发材料在基底上形成了倾斜的柱状结构薄膜，而且随着蒸镀过程入射角度的增加，薄膜柱状结构也发生了明显改变，本文结合试验结果对这些影响因素加以分析。通过控制薄膜生长的条件，包括沉积的材料和其它条件，能够将薄膜结构控制精确到10nm级别。在薄膜生长过称中．动量守恒和表面扩散作用是形成这种独特的柱状结构的主要原因。因此，如果能够采用工艺手段改变材料的结构来改变它的折射率，就能使光