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探讨了抛光液组成和机械抛光工艺参数（包括抛光压力、转速、抛光液流速和抛光时间）对铝栅化学机械抛光过程中铝的去除速率的影响，确定抛光液的组成为：氧化剂H2021．0％（体积分数，下同），螯合剂FA／OII0．4％，非离子表面活性剂FA／OI2．0％，纳米硅溶胶磨料12％，pH10。粗抛工艺参数为：抛光压力3．0psi，转速50r／min，抛光液流速250mL／min，抛光时间240S。精抛工艺参数为：抛光压力2．0psi，转速45r／min，抛光液流速150mL／min，抛光时间240s。粗抛时铝的去除速率