用同步辐射进行半导体微细加工

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日本冈崎国立共同研究机构分子科学研究所开发了一种用很强的人造“辐射光”进行半导体微细加工的技术。该技术的加工精度为0.1nm,相当于一个原子大小。利用该技术使以往需加热1000℃的加工工艺,在500℃的低温下也能完成,由此打开了研制Si与蛋白质相结合的新材料? Institute of Molecular Science, Okazaki, Japan, a joint state research institute, has developed a technique for microfabrication of semiconductors using highly artificial “radiant light.” The precision of the technology is 0.1nm, equivalent to one atom size. The use of the technology so that the past need to heat the processing of 1000 ℃, at a low temperature of 500 ℃ can be completed, which opened the development of Si and protein combination of new materials?
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