稀硫酸溶液清洗电镀铜晶种

来源 :中国有色金属学报（英文版） | 被引量 : 0次 | 上传用户：stepbystep

【摘要】

：

采用稀硫酸溶液清洗以除去在铜晶种表面形成的氧化物.将通过溅射沉积在Ti/Si(100)薄片上生成的铜晶种暴露在空气中来生长原生铜氧化物.用稀硫酸溶液和TS-40A碱性清洗剂除去原

【作者】

：

Youn-Seoung LEE Jae-Sik YOON Y

【机构】

：

Department of Information Communication Engineering,School of Materials Science and Engineering,Depa

【出处】

：

中国有色金属学报（英文版）

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

预处理铜氧化物 H2SO4 光电子能谱方块电阻 pretreatment copper-oxide H2SO4 XPS sheet resistance

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采用稀硫酸溶液清洗以除去在铜晶种表面形成的氧化物.将通过溅射沉积在Ti/Si(100)薄片上生成的铜晶种暴露在空气中来生长原生铜氧化物.用稀硫酸溶液和TS-40A碱性清洗剂除去原生铜氧化物.先用TS-40A碱性清洗剂预处理以除去铜晶种表面的有机物,再用稀硫酸溶液除去铜氧化物(Cu2O和CuO)以及有机物和Cu(OH)2.

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