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电化学沉积层的制备是电铸技术的关键环节。本文采用脉冲电铸技术制备Ni—Nd2O3纳米复合沉积层，考察了镀液中Nd2O3纳米颗粒添加量、平均电流密度、占空比、脉冲频率对纳米复合沉积层中Nd2O3含量及纳米复合沉积层显微硬度的影响，并对纳米复合沉积层的表面形貌进行了分析。结果表明，在镀液中Nd2O3纳米颗粒添加量20g／L-30g／L、脉冲平均电流密度2A／dm^2-4A／dm^2、占空比0．2-0．4和脉冲频率1000Hz的条件下，可获得Nd2O3含量大的高硬度复合沉积层，并且沉积层表面平整、光滑，晶粒细小