【摘 要】
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直接在硅片上分步重复曝光的自动投影光刻机,是目前1M、4MDRA及更高集成度各种超大规模集成电路生产的主流光刻工具,本文简要介绍深圳丰德微电子有限公司以引进,消化,吸收与单元技术相结
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直接在硅片上分步重复曝光的自动投影光刻机,是目前1M、4MDRA及更高集成度各种超大规模集成电路生产的主流光刻工具,本文简要介绍深圳丰德微电子有限公司以引进,消化,吸收与单元技术相结合的方式,进行1微米实用线宽自动投影光刻机的研制及工艺衫化试验的情况,开发如何与集成电路生产,研究相结合。促进共同扫展等谈一些体会和看法。
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