【摘 要】
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在2012年12月于美国举行的“IEDM 2012”上,被采用的4篇论文中,有2篇是有关氧化物半导体的成果。可以看出Si(硅)行业对该材料备受关注。氧化物半导体具有可在低温下制备、性
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在2012年12月于美国举行的“IEDM 2012”上,被采用的4篇论文中,有2篇是有关氧化物半导体的成果。可以看出Si(硅)行业对该材料备受关注。氧化物半导体具有可在低温下制备、性能高且透明的特点,正在以高精细显示器的驱动晶体管为中心实现实用化,夏普于2012年针对液晶面板开始量产
Of the four papers adopted at the “IEDM 2012” held in the United States in December 2012, two were related to oxide semiconductors. It can be seen that the Si (silicon) industry is of great concern for this material. Oxide semiconductors have the characteristics of being able to be prepared at a low temperature, high performance and transparency, and are being put into practical use around a driving transistor of a high definition display. Sharp started mass production of the liquid crystal panel in 2012
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