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用原位XRD方法证明V_2O_5能在硅胶表面自发分散,但所需温度较高.水汽对V_2O_6的分散有一定的阻碍作用.K_2SO_4可显著加快V_2O_5在SiO_2表面的分散速度,并能降低V_2O_5/SiO_2的表面酸性.被中和的主要是强酸位.这可能是K_2SO_4能够改善V_2O_5/SiO_2催化剂在选择氧化反应中选择性的重要原因之一.