PVD(物理气相沉积)简介

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PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速 PVD is the abbreviation of English Physical Vapor Deposition (PVD), refers to the vacuum conditions, the use of low-voltage, high current arc discharge technology, the use of gas to evaporate the target material and the evaporation of substances and gases are ionized, Use of electric field acceleration
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