TRANSMISSION ELRCTRON MICROSCOPY INVESTIGATIONS OF LOW-PRESSURE CVD GROWTH AND STRAIN RELAXATION OF

来源 :金属学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：poabc123

【摘要】

：

Shapes, dimensions, arrangements and the microstructure of self-assembled islands fabricated by low-pressure chemical vapour deposition (LPCVD) of Ge at 700℃ o

【作者】

：

E.Spiecker L.Zhang H.M.Lu W.Ja

【机构】

：

MicroanalysisofMaterials,InstituteofThinFilmsandInterfaces

【出处】

：

金属学报：英文版

【发表日期】

：

2005年3期

【关键词】

：

硅-锗半导体电子显微镜纳米结构薄膜生长化学气相沉积 Si-Ge heteroepitaxy surface transmission electro

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Shapes, dimensions, arrangements and the microstructure of self-assembled islands fabricated by low-pressure chemical vapour deposition (LPCVD) of Ge at 700℃ onto Si(110) substrates have been investigated for different nominal Ge coverage by transmission

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