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提出了分析纯钨的新方法,此方法是以杂质的初步高压浓缩为基础的,高压浓缩是与用二氟化氙进行试样加工和以易挥发的六氟化物形式存在的基体的蒸馏同时进行的。用带直流电电弧的原子发射光谱法和耦合电感等离子体法来测定浓缩物中杂质Al,Cl、Fe、Mn、Mg、Ni、Cu、Pb、Zn、Cr的含量。在重量为200mg的试样中。探测范围为6.10^-7 ̄3.10^-5%。