HgCdTe分子束外延In原子的掺杂特性

来源 :固体电子学研究与进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户：flyinghdl1

【摘要】

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报道了用MBE方法生长掺In N型HgCdTe材料的研究结果.发现In作为N型施主在HgCdTe中的电学激活率接近100%,其施主电离激活能至少小于0.6 meV.确认了在制备红外焦平面探测器时有

【作者】

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巫艳陈路于梅芳乔怡敏吴俊何力胡晓宁李言谨张勤

【机构】

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中国科学院上海技术物理研究所半导体材料与器件研究中心及国家物理红外实验室

【出处】

：

固体电子学研究与进展

【发表日期】

：

2004年期

【关键词】

：

分子束外延碲镉汞铟掺杂红外焦平面

【基金项目】

：

中国科学院知识创新工程项目;

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报道了用MBE方法生长掺In N型HgCdTe材料的研究结果.发现In作为N型施主在HgCdTe中的电学激活率接近100%,其施主电离激活能至少小于0.6 meV.确认了在制备红外焦平面探测器时有必要将掺杂浓度控制在约3×1015cm-3水平.比较了高温退火前后In在HgCdTe中的扩散行为,得出在400 °C温度下In的扩散系数约为10-14cm2/sec,确认了In原子作为HgCdTe材料的N型掺杂剂的可用性和有效性.

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