化学气相沉积过程中Si的引入对硬质合金金刚石涂层附着力的影响

来源 :金刚石与磨料磨具工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wyfwin

【摘要】

：

利用微波等离子体化学气相沉积方法,以H2、CH4和八甲基环四硅氧烷(D4)为原料,在硬质合金基体上沉积了金刚石涂层.与一般只使用H2、CH4为原料时的情况相比,金刚石涂层与硬质合

【作者】

：

樊凤玲唐伟忠黑立富吕反修刘素田

【机构】

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北京科技大学材料科学与工程学院

【出处】

：

金刚石与磨料磨具工程

【发表日期】

：

2005年1期

【关键词】

：

微波等离子体化学气相沉积八甲基环四硅氧烷金刚石涂层附着力硬质合金 MPCVD D4 diamond coating adhesion cemen

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利用微波等离子体化学气相沉积方法,以H2、CH4和八甲基环四硅氧烷(D4)为原料,在硬质合金基体上沉积了金刚石涂层.与一般只使用H2、CH4为原料时的情况相比,金刚石涂层与硬质合金基体间的附着力有了一定程度的提高.对涂层断面的成分分析表明,Si在涂层与基体间的界面处有富集的倾向,而这将有助于抑制Co对涂层附着力的不利影响,提高金刚石涂层的附着力.

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