【摘 要】
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为满足惯性约束聚变（ICF）对聚酰亚胺（PI）靶丸的要求,研究了气相沉积过程单体加热温度对PI薄膜厚度的影响并测试其均匀性,测试了脉冲敲击模式下复合微球的表面质量。研究了薄膜热
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川大学原子与分子物理研究所
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为满足惯性约束聚变（ICF）对聚酰亚胺（PI）靶丸的要求,研究了气相沉积过程单体加热温度对PI薄膜厚度的影响并测试其均匀性,测试了脉冲敲击模式下复合微球的表面质量。研究了薄膜热环化过程中的结构变化,并对所得PI薄膜进行了热稳定性分析。研究结果表明：脉冲敲击下制备所得复合微球表面粗糙度均方根值波动在29～45nm之间,在相同时间内其薄膜厚度随单体加热温度的增加而增加,通过调节不同单体加热温度,可将薄膜厚度控制在一定范围;薄膜厚度测试发现其较为均匀,横向和纵向各点厚度相差不足1μm;热环化后聚酰胺酸转化为PI
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