【摘 要】
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本文报道用RFPECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳 (DLC)膜。研究了氢稀释、气体压力和RF功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外吸收谱和小角度X射线衍射谱分析了DLC膜的结
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本文报道用RFPECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳 (DLC)膜。研究了氢稀释、气体压力和RF功率对薄膜性质的影响。用光透射率、红外吸收谱和小角度X射线衍射谱分析了DLC膜的结构和光学性质。结果表明 ,这样制备的DLC膜是无定形态的 ,包含了大量的C—H键 ,具有良好的透明性。厚度为 2 30nm的DLC膜在 4 80nm后的可见光区和近红外区的透过率大于 83% ,所导出的Tauc光学带隙在 2 .7eV和 3.7eV之间。本文还探讨了应用这种DLC膜作为二次电子发射材料的可能性。
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