【摘 要】
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采用磁控溅射法制备了glass／ITO／NiO2／ZrO2：H／WO3／IT0全薄膜电致变色器件，并对单层膜的结构及性能进行了研究．器件中Niox、ZrO2：H和WO3各单层薄膜的SEM、XRD以及XPS的测试结果表明：NiOx
【机 构】
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北京航空航天大学能源与动力学院,北京航空航天大学物理科学与核能工程学院,布鲁塞尔自由大学大气等离子体实验室CHANI
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采用磁控溅射法制备了glass／ITO／NiO2／ZrO2：H／WO3／IT0全薄膜电致变色器件，并对单层膜的结构及性能进行了研究．器件中Niox、ZrO2：H和WO3各单层薄膜的SEM、XRD以及XPS的测试结果表明：NiOx薄膜表面颗粒之间有孔隙存在，这些空隙有利于H＋的嵌入和脱出；而ZrO2：H薄膜和WO3薄膜的表面粗糙，颗粒度较小，这样的表面形貌有利于电致变色反应的发生．采用紫外一可见光分光光度计对器件的光学性能及循环寿命进行研究，器件经历60000次连续着褪色循环后，着色响应时间明显迟缓，褪色响
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