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采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术，在透明导电玻璃（ＩＴＯ）及Ｓｉ（１１１）单晶基片上沉积了尺寸达４×４ｃｍ＾２，具有高ｃ轴（００１）取向生长的Ｖ２Ｏ５薄膜，采用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、拉曼光谱（ＲＳ）、傅里叶红外光谱（ＦＴ－ＩＲ）对沉积及不同温度下退火处理的样品结构和光谱特性进行了研究。
脉冲准分子激光大面积扫描沉积V2O5光电薄膜及光谱分析
【摘 要】
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采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术，在透明导电玻璃（ＩＴＯ）及Ｓｉ（１１１）单晶基片上沉积了尺寸达４×４ｃｍ＾２，具有高ｃ轴（００１）取向生长的Ｖ２Ｏ５薄膜，采用Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）、拉曼光谱（ＲＳ）、傅里叶红外光谱（ＦＴ－ＩＲ）对沉积及不同温度下退
【机 构】
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华中科技大学激光技术国家重点实验室,华中科技大学物理系
【出 处】
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红外技术
【发表日期】
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2000年5期
【基金项目】
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国家自然科学基金! (编号 :19775 0 16 ),湖北省自然科学基金! (编号 :99J0 49)资助项目
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