【摘 要】
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本文介绍55％重量Al_2O_3和45％重量玻璃作基板材料,采用扎膜成型;银95％重量和钯5％重量作导体材料,用丝网漏印法布线;在880～920℃烧成的多层陶瓷基板。其性能不仅优于95％重量Al_2O_3
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本文介绍55％重量Al_2O_3和45％重量玻璃作基板材料,采用扎膜成型;银95％重量和钯5％重量作导体材料,用丝网漏印法布线;在880～920℃烧成的多层陶瓷基板。其性能不仅优于95％重量Al_2O_3瓷和M_0、Mn作导体材料烧成的多层基板,而且工艺简单,成本更低。它是制作集成电路基板的一种较理想的陶瓷材料。
This paper describes 55% by weight of Al_2O_3 and 45% by weight of glass as a substrate material, using a film forming; silver 95% by weight and palladium 5% by weight as a conductor material, Layer ceramic substrate. Its performance is not only better than 95% by weight of Al_2O_3 porcelain and M_0, Mn as conductor material fired multilayer substrate, and the process is simple, lower cost. It is an ideal ceramic material for making integrated circuits.
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