用聚焦炉对4英寸砷注入硅片的快速退火

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装有6.5kWXe弧灯的聚焦炉已经用于单层曝光的4吋砷注入硅片的退火。电的和结构的研究表明,活化充分而且没有明显的杂质扩散,对于注入剂量低的(5×10~(14)/cm~2,100KeV)再生长层是没有缺陷的,但是注入剂量高时,(10~(15)cm~2,200KeV)则可观察到位错环。 A focusing oven equipped with a 6.5kWXe arc lamp has been used to anneal 4-inch arsenic implanted silicon wafers for single-layer exposure. Electrical and structural studies have shown that sufficient activation and no significant diffusion of impurities are flawless at a low implantation dose (5x10-14 / cm-2, 100 KeV) regrowth layers, but at high implant doses, (10 ~ (15) cm ~ 2,200 KeV), dislocation loops are observed.
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