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原子力显微镜在GaN研究中的应用
原子力显微镜在GaN研究中的应用
来源 :现代仪器 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yx5813399
【摘 要】
:
本文采用原子力显微镜(AFM)对Si基外延GaN的形貌及出现的V缺陷进行研究。实验结果表明,CaN外延层厚度为0.5μm时粗糙度最低且没有裂纹出现;厚度为0.4μm的GaN表面出现小坑——V缺
【作 者】
:
王其民
赵丽伟
滕晓云
张帷
刘彩池
【机 构】
:
河北工业大学信息功能材料研究所
【出 处】
:
现代仪器
【发表日期】
:
2006年4期
【关键词】
:
原子力显微镜
GAN
表面形貌
V缺陷
AFM GaN Surface topography V defect
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本文采用原子力显微镜(AFM)对Si基外延GaN的形貌及出现的V缺陷进行研究。实验结果表明,CaN外延层厚度为0.5μm时粗糙度最低且没有裂纹出现;厚度为0.4μm的GaN表面出现小坑——V缺陷,密度约为10^8cm^-2。
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