【摘 要】
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在研究等离子聚合法所合成的聚对二甲苯（ppPX）薄膜的化学结构和性能的基础上,考察了ppPX作为铜在Si-SiLK基体上阻隔层的应用可能性.在特定辉光射频条件下,ppPX膜表面的苯环能够
【机 构】
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河南省表界面重点实验室,郑州轻工业学院材料与化工学院,
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在研究等离子聚合法所合成的聚对二甲苯（ppPX）薄膜的化学结构和性能的基础上,考察了ppPX作为铜在Si-SiLK基体上阻隔层的应用可能性.在特定辉光射频条件下,ppPX膜表面的苯环能够保留。加热退火后,铜向裸Si-SiLK和向经ppPX接枝修饰的Si-SiLK基体的扩散程度存在差异。经由Ar和N2载气所承载的对二甲苯单体所聚合得到的ppPX,具有不同的结构和性能,后者能改善铜和聚合物膜间的粘附力。因此,在Si-SiLK基底表面制备ppPX膜,可提高铜在基体上的粘附强度,又能阻隔铜向内基体内扩散。
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