溅射靶材制备技术及产品

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<正>事业部以航天用粉末冶金材料的研制生产技术为依托,利用军用产品的研究成果和技术优势,开展高纯高性能溅射靶材的研发和生产工作。拥有先进的热等静压(HIP)、冷等静压(CIP)和真空烧结等材料制备成形工艺,可提供质量稳定、成分多样、规格系列化的磁控溅射靶材产品,并且可按要求生产组合靶并提供绑定服务。目前产品包括平面靶材及旋转靶材,产品种类主要有Cr、Si-Al、Nb-Mo、Cr-Ti、Ni-Cr、W-Ti、TiO2等金属及合金靶材。其中热等静压Cr、Si-Al等管靶尺寸达直径50300mm,长2000mm(无拼接),管靶晶粒度细小,纯度高,致密度达99.5%以上。靶材可用于装饰镀膜、耐磨涂层、玻璃幕墙、液晶显示、光伏建筑等行业。
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