【摘 要】
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采用波长为1064 nm的光纤激光器对聚酰亚胺(PI)膜进行激光碳化工艺试验,研究了激光线间距与光斑直径、扫描速度与脉冲频率、激光功率对激光直写PI膜成碳性能的影响规律.结果 表明:激光直写PI膜的产物为三维多孔碳层结构,其中,C、N、O元素的质量分数分别为84.84％、2.02％、13.14％;激光线间距与光斑直径、扫描速度与脉冲频率、激光功率这三组工艺参数均会不同程度地影响激光直写PI膜的成碳性能;通过研究激光直写PI膜成碳的导电性能得到了最佳工艺参数:激光线间距为0.001 mm,光斑直径为0.06
【机 构】
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常州大学材料科学与工程学院,江苏省环境友好高分子材料重点实验室,江苏常州213164;中海油常州涂料化工研究院有限公司,江苏常州213016;常州工业职业技术学院,江苏常州213164;常州大学材料科
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采用波长为1064 nm的光纤激光器对聚酰亚胺(PI)膜进行激光碳化工艺试验,研究了激光线间距与光斑直径、扫描速度与脉冲频率、激光功率对激光直写PI膜成碳性能的影响规律.结果 表明:激光直写PI膜的产物为三维多孔碳层结构,其中,C、N、O元素的质量分数分别为84.84％、2.02％、13.14％;激光线间距与光斑直径、扫描速度与脉冲频率、激光功率这三组工艺参数均会不同程度地影响激光直写PI膜的成碳性能;通过研究激光直写PI膜成碳的导电性能得到了最佳工艺参数:激光线间距为0.001 mm,光斑直径为0.06 mm,扫描速度为150 mm/s,脉冲频率为40 kHz,激光功率为2.2W;在该工艺参数下,激光直写PI膜的成碳缺陷比例最低,其碳层的方块电阻可低至55Ω/sq.
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