【摘 要】
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在室温条件下,利用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了NiO/Ag/NiO透明导电膜,研究了不同NiO层和Ag层厚度对三层膜可见光透过率和电阻特性的影响.结果分析表明:制备的NiO/Ag/NiO为N
【机 构】
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山东师范大学物理与电子科学学院 济南 250358
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在室温条件下,利用磁控溅射法在玻璃衬底上制备了NiO/Ag/NiO透明导电膜,研究了不同NiO层和Ag层厚度对三层膜可见光透过率和电阻特性的影响.结果分析表明:制备的NiO/Ag/NiO为N型透明导电膜.在400～800 nm的可见光区域内,随着NiO和Ag层厚度的增加,薄膜的透光率先增大后减小.NiO层厚度为30 nm且Ag层厚度为11 nm时,叠层膜具有较好的光学特性,其最大透过率为84％,薄膜电阻为3.8Ω/sq,载流子浓度为7.476×1021 cm-3.对薄膜透过率进行了计算机模拟,发现结果与实验中大致趋势相同,但因为折射率选择和薄膜界面等因素的影响,在可见光区域后半段实验值大于计算值.
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