【摘 要】
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1 概况 自从1972年John chapin发明了平面磁控管溅射技术以后,磁控溅射开始几乎都是为各种集成电路服务的,直到八十年代初才移植到金属膜电阻器的成膜上来,我国自八十年代末
【机 构】
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江苏省冶金研究所,江苏省冶金研究所 南京市 210007,南京市 210007
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1 概况 自从1972年John chapin发明了平面磁控管溅射技术以后,磁控溅射开始几乎都是为各种集成电路服务的,直到八十年代初才移植到金属膜电阻器的成膜上来,我国自八十年代末期相继从美国、日本引进了十余条磁控溅射镀膜机,我所成功地研制出了用在
1 Overview Since the invention of planar magnetron sputtering by John Chapin in 1972, magnetron sputtering began almost exclusively for various integrated circuits and was not transplanted into the formation of metal film resistors until the early 1980s , Our country since the late eighties from the United States, Japan introduced more than a dozen magnetron sputtering machine, I have successfully developed the use of
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