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在６６０℃下以ＳｉＨ５４－ＮＨ３－ＣＯ２作为反应气体利用常压ＣＶＤ（ＡＰＣＶＤ）设备沉积得到了氧氮玻璃薄膜，此温度比文献物ＡＰＣＶＤ法低２００℃以上，有效地降低了沉积温度，实验发现ＮＨ３中水汽对沉积反应的显著影响，初步研究表明，运用ＡＰＣＶＤ法将这种薄膜应用于普通钙硅玻璃的表面改性，可使镀膜玻璃的表面硬度比退火玻璃提高一５０％以上。