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低阻高透过率ITO薄膜的制备与性能
低阻高透过率ITO薄膜的制备与性能
来源 :液晶与显示 | 被引量 : 0次 | 上传用户:andywu2009
【摘 要】
:
研究了直流磁控溅法制备的ITO薄膜的光电特性与溅射工艺参数的关系以及退火处理对TIO薄膜光电特性的影响。
【作 者】
:
王刚
刘宏宇
【机 构】
:
中国科学院长春物理研究所
【出 处】
:
液晶与显示
【发表日期】
:
1999年1期
【关键词】
:
直流磁控溅射
薄膜
TIO
半导体
透过率
真空退火
DCmagnetron sputteringsubstrate temperature sputterin
【基金项目】
:
中国科学院“九五”重大项目,吉林省科委“九五”科技攻关项目
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研究了直流磁控溅法制备的ITO薄膜的光电特性与溅射工艺参数的关系以及退火处理对TIO薄膜光电特性的影响。
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