镁合金阳极氧化膜成膜过程的交流阻抗谱研究

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yufengdetianxia
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采用阳极氧化工艺对AZ31镁合金进行表面处理,利用交流阻抗技术(EIS)研究了阳极氧化膜的成膜过程。结果表明,不同氧化时间氧化膜的阻抗谱变化具有明显的规律性,可以划分为4个阶段,并且各阶段之间存在显著差异。利用R(C(R(QR)))(CR)模型进行计算机拟合,得到的等效电路元件拟合值显示:随着氧化时间的延长,膜表面孔洞增多,粗糙度也随之增大;氧化膜阻挡层和多孔层的生长并不同步,而是一个动态变化的过程。 Anodic oxidation of AZ31 magnesium alloy surface treatment, the use of AC impedance technique (EIS) studied the anodic oxide film formation process. The results show that the impedance spectra of oxide films with different oxidation time have obvious regularity, which can be divided into four stages, and there are significant differences between the stages. The fitted values ​​of the equivalent circuit elements obtained by computer simulation using the R (C (R (QR))) (CR) model show that as the oxidation time prolongs, the surface pores increase and the roughness increases ; Oxide film barrier and porous layer growth is not synchronized, but a dynamic process.
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