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利用RBS和TEM技术分析研究了不同注入剂量、注入方式(单重注入,多重注入)对SIMOX材料各层结构的影响,特别着重研究了Si/SiO2界面过渡区受注入条件的影响。结果表明,在注入剂量相同的情况下,多重注入不仅能改善顶层单晶、SiO2绝缘层的质量,而且能显著减小Si/SiO2界面过渡区宽度。