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新型低温高增益SiGe/Si HBT的研究
新型低温高增益SiGe/Si HBT的研究
来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wangyifan_18
【摘 要】
:
分析了硅双极晶体管电流增益在低温下减少的原因,通过优化设计,研制出在液氮温度睛具有高增益的SiGe/SiHBT,并分析了工作的机理。
【作 者】
:
邹德恕
陈建新
【机 构】
:
北京工业大学电子工程系
【出 处】
:
半导体技术
【发表日期】
:
1997年6期
【关键词】
:
异质结
应变层
电流增益
硅双极晶体管
【基金项目】
:
北京市自然科学基金
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分析了硅双极晶体管电流增益在低温下减少的原因,通过优化设计,研制出在液氮温度睛具有高增益的SiGe/SiHBT,并分析了工作的机理。
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