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光学薄膜的表面粗糙度是影响薄膜光学特性的重要因素，薄膜表面产生的散射损耗将影响薄膜的光学质量．采用非平衡磁控溅射（Unbalance Magnetron Sputtering，UBMS）和脉冲真空电弧沉积（Pulsed Vacuum Arc Deposition，PVAD）制备类金刚石薄膜（Diamond Like Carbon，DLC），利用泰勒霍普森表面轮廓仪，研究了不同工艺参数、不同薄膜厚度下所沉积的DLC薄膜表面粗糙度变化规律．结果表明：两种沉积技术下，随着薄膜厚度的增加，其表面均方根粗糙度先减小