基于调制度分析与二阶导数导向的综合相位去包裹算法

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 2次 | 上传用户:qpalzm951
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在相位去包裹算法中,以调制度为参数的质量导向算法能够较好地抑制阴影、陡峭变化区域错误的传播;而以包裹相位二阶导数模值为参数的导向算法能引导去包裹沿连续性最高的方向进行。综合这两种参数导向算法的特点,提出了基于调制度分析与包裹相位二阶导数导向的综合去包裹算法。该算法首先找到一个最优门限,并根据该门限将调制度质量图分为"好"与"差"两种区域,然后在好质量区域采用洪水算法以提高去包裹算法效率,在差质量区域利用包裹图二阶导数模值引导去包裹路径沿连续性最好的方向进行。对投影条纹法和数字散斑法所得的包裹图处理结
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