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用C—V法观察介质—半导体界面的电荷存储效应
用C—V法观察介质—半导体界面的电荷存储效应
来源 :电子产品可靠性与环境试验 | 被引量 : 0次 | 上传用户:BESTWANGLOVE
【摘 要】
:
用SiNx作印化层的InGaAs/InP光电二极管和N沟道GaAs的高频特性和电性能稳定性问题与SiNx-半导体界面的电荷存储效应有密切关系。
【作 者】
:
费庆宇
【机 构】
:
电子部五所,广州,510610
【出 处】
:
电子产品可靠性与环境试验
【发表日期】
:
1997年6期
【关键词】
:
C-V法
半导体
介质半导体界面
电荷存储效应
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用SiNx作印化层的InGaAs/InP光电二极管和N沟道GaAs的高频特性和电性能稳定性问题与SiNx-半导体界面的电荷存储效应有密切关系。
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