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通过研究真空蒸镀工艺中预熔→蒸发过渡电流变化率对光控膜物理特性的影响，得出过渡电流变化率是影响蒸镀膜层物理特性的关键因素之一，并对其机理作了讨论。实验确定出蒸镀阳光控制膜时渡电流变化率不得小于３０Ａ／ｓ。
真空蒸镀预熔→蒸发过渡电流变化率对光控膜物理特性的影响
【摘 要】
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通过研究真空蒸镀工艺中预熔→蒸发过渡电流变化率对光控膜物理特性的影响，得出过渡电流变化率是影响蒸镀膜层物理特性的关键因素之一，并对其机理作了讨论。实验确定出蒸镀阳光
【机 构】
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陕西师范大学物理系
【出 处】
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西安工业学院学报
【发表日期】
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1999年3期
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