铜(Ⅱ)存在下痕量巯基醋酸钠的吸附伏安法研究

来源 :浙江医科大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ywdiy_cn
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作者以悬汞电极研究了铜(Ⅱ)存在下,痕量巯基醋酸钠(SMA)的差分脉冲吸附伏安行为,认为其电极过程为化学反应-吸附富集-电极反应,即CAE过程,并通过电子转移数、反应氢离子数、络合比的测定,提出了可能的电极反应方程式。在选定的Britton-Robinson(pH3.4)溶液中,在过量的Cu(Ⅱ)存在下,巯基醋酸钠吸附还原峰峰形敏锐,其线性范围为1.0×10-9~1.0×10-7mol/L,富集10min,其检测限降低至20×10-10mol/L。用于人发、指甲试样的测定,结果令人满意。 The authors studied the differential pulse voltammetric behavior of trace amounts of sodium thioglycolate (SMA) in the presence of copper (II) using the hanging mercury electrode and considered that the electrode process was chemical reaction-adsorption-enrichment-electrode reaction, ie, CAE process By the number of electron transfer, the number of hydrogen ions, the determination of the complex ratio, the possible electrode reaction equation is proposed. In the selected Britton-Robinson (pH3.4) solution, in the presence of excess Cu (Ⅱ), sodium thioglycollate adsorption reduction peak sharp shape, the linear range of 1.0 × 10-9 ~ 1.0 × 10-7mol / L, enrichment 10min, the detection limit reduced to 20 × 10-10mol / L. For human hair, nail sample determination, the results are satisfactory.
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