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本文研究了三种具有不同厚度和表面缺陷深度的抗压层的化学增强玻璃对用作存储磁盘的基片的适合性。抗压层的厚度由15～40μm 变化到120～160μm。测量了旋转断裂强发和三点弯曲强度并且用维泊尔统计法分析了测试数据。对于具有120～160μm厚抗压层的玻璃获得的维泊尔模量为50,与常规陶瓷的维泊尔模量相比,这是一个极高的值。深度小于20μm的表面缺陷似乎不会降低具有120μm厚抗压层的玻璃的强度,因而这样的玻璃对用作高度可靠的玻璃基片来说应当是合适的。