【摘 要】
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为研究冲击片集成组件制造方法及其性能,采用化学气相沉积法（CVD）在爆炸箔基底上沉积制备了聚氯代对二甲苯（PC）飞片层,并且利用光刻方法原位集成了Su8-2150光刻胶加速膛,获得的加
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为研究冲击片集成组件制造方法及其性能,采用化学气相沉积法（CVD）在爆炸箔基底上沉积制备了聚氯代对二甲苯（PC）飞片层,并且利用光刻方法原位集成了Su8-2150光刻胶加速膛,获得的加速膛厚度大于300μm且壁面垂直度良好。利用光子多普勒速度（PDV）测量技术获得了该冲击片组件电爆炸驱动飞片的加速历程。对比了常规方法制造的冲击片组件（聚酰亚胺飞片）与相同参数集成冲击片组件的飞片加速历程。结果表明,两组加速历程基本一致。聚酰亚胺飞片与PC飞片在前80 ns内分别达到了最大速度的77%与80%,加速膛出口处飞片速度分别为3970 m·s-1和3906 m·s-1,两种冲击片组件驱动性能接近,飞片和加速膛的材料的改变对电爆炸驱动飞片过程未产生明显影响。
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