【摘 要】
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离子束刻蚀是近年来发展起来的微细加工工艺。由于它的超精细加工能力等特点,已在微电子技术、光子技术,表面科学、应用声学、材料科学和真空技术等领域中得到广泛的应用。本
【机 构】
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陕西师范大学物理系,陕西师范大学物理系
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离子束刻蚀是近年来发展起来的微细加工工艺。由于它的超精细加工能力等特点,已在微电子技术、光子技术,表面科学、应用声学、材料科学和真空技术等领域中得到广泛的应用。本文采用的束流密度为0.5(mA·cm<sup>-2</sup>),能量分别为600eV 和1100eV 垂直入射的氩离子束对半导体单晶硅片(111)面上宽度分别为200、80,30、10、8(μm)的沟槽进行刻蚀,用扫描电子显微镜拍摄记录不同时刻的沟槽台阶形貌。考虑到溅出的靶原子在空间的各种不同分布,建立了重新淀
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