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中国科学院半导体研究所于1984年已研制成一种能脱除各种惰性气体和特气中O2、H2O杂质的净化剂。脱O2深度最低到<0．03ppm；脱H2O深度<-80℃。经多次实验证明，这种净化剂能用于HCl、PH3、AsH3、NH3中脱除O2和H2O，适用于MOCVD工艺的气体净化。该净化剂必将在电子工业和科研中得到广泛应用。