以注氮SiO2作为铜互连技术中的新型阻挡层

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采用给PECVD SiO2中注入氮的方法,形成一薄层氮氧化硅,以此作为一种新型的扩散阻挡层.不同热偏压条件下的C-V测试结果和XPS分析结果表明,该方法能起到对铜扩散的有效阻挡作用.
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