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本文对目前国内外制作高速集成运算放大器新采用的互补双极（ＣＢ）工艺作了一粗略分析。并结合作者在ＣＢ工艺方面的实验和国内当前工艺和设备水平，提出了两种在现有技术条件下可以实现的ＣＢ工艺。
高频互补双极工艺探析
【摘 要】
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本文对目前国内外制作高速集成运算放大器新采用的互补双极（ＣＢ）工艺作了一粗略分析。并结合作者在ＣＢ工艺方面的实验和国内当前工艺和设备水平，提出了两种在现有技术条件下可以实现的
【机 构】
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电子工业部第２４研究所
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1995年05期
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