上颌后牙颊侧微种植支抗钉植入区的定量分析

来源 :武汉大学学报(医学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:wuweiyangking
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目的:研究中国人上颌后牙颊侧微种植支抗钉常用植入位置的解剖形态,以确定微种植支抗钉植入安全区及其定量分析方法。方法:利用数字化根尖片影像测量左右侧上颌第二前磨牙与第一磨牙间距上颌牙槽嵴顶2、4、6、8 mm处颊侧牙槽骨近远中向根间距离。结果:男女组间差异无统计学意义(P>0. 05);左右侧对应位置测量值差异无统计学意义(P>0. 05);不同个体之间在同一牙槽嵴高度的近远中向根间距离差异较大,最大差异值为3. 9 mm;随着距牙槽嵴顶高度的增加,上颌第二前磨牙与第一磨牙间近远中向根间宽度也随之增加,差异具有统计学意义(P<0. 05)。结论:数字化根尖片可作为临床微种植支抗钉植入手术的常规辅助检查手段;本研究采用的位置分析方法及数据可为临床医生在植入微种植支抗钉时提供一定的参考。
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