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光刻、OPC与DFM
光刻、OPC与DFM
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:tlling06990702
【摘 要】
:
讨论了90/65nm芯片设计采用可制造性设计的必要性和优势。介绍了以RET/OPC为核心的可制造性设计。
【作 者】
:
翁寿松
【机 构】
:
无锡市罗特电子有限公司
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2006年4期
【关键词】
:
芯片设计
光刻
光学邻近效应校正
可制造性设计
分辨率增强技术
Chip design
Lithography
Optical proximity effe
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讨论了90/65nm芯片设计采用可制造性设计的必要性和优势。介绍了以RET/OPC为核心的可制造性设计。
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